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缩短波长可能扩展euv蓝图? -九游会ag

日期: 2018-10-17
浏览次数: 15

原创: vivek bakshi 

  现在正是再次探讨缩短波长并了解其优缺点的时候了。我们不知道13.5nm和1nm之间的最佳选择,所以我将这种新技术选项称为blue-x——其波长大约介于深蓝极紫外光(euv)微影和x射线之间。

  缩短波长是持续扩展光学微影技术的一种选择,着重在短于13.5nm波长的光源和光学组件,这些将在不久的未来实现这一技术。

  升级至0.5的更高数值孔径(na),将必须付出十分昂贵的代价。不仅工具成本将倍增至2.35亿欧元,较大尺寸的扫描仪也需要更庞大的费用来打造更大规模的晶圆厂。

  一旦采用高数值孔径作业,在考虑更高数值孔径带来更高成本的同时,也一并想到高数值孔径的多重曝光,这样可能更有意义。然而,缩短波长不仅能缩减数值孔径,从而有助于提高分辨率,同时降低工具成本以及功耗要求。

  以k1系数约0.3的单次曝光为例,在13.5nm波长时,0.33 na达到12nm的分辨率,而在0.5 na时可提高到8nm。业界一度关注的波长为6.7nm,但由于我们无法解决其功率问题,使得该选项缺乏带宽而被放弃了。

  相较于采用6.7nm波长,从0.33升级至更高na有其优点:它让我们能保持相同的功率、多层(ml)和光罩等基础设施。毕竟,同时承担太多挑战并不是个好办法。

  我们已经了解如何根据雷射驱动电浆(lpp)、光学组件、污染控制和光罩等方面调整功率了,接下来将能把这些学问应用于专为较短波长设计的扫描仪上。因此,我认为现在正是重新审视缩短波长选项的时候了。我建议我们在考虑其他技术选择的优点和缺点时,一路持续关注至1nm。


光源和光学挑战


  过去,我们已经探索了11nm和6.6nm或6.7nm光源可能成为euvl的较短波长了。氙(xenon)可以提供11nm,而针对6.x-nm,铽(tb)和钆(gd)则被视为lpp光源的材料源。

  藉由增加目标材料的原子量z,我们可以持续从lpp光源取得越来越短波长的光子。这些高z材料并没有单一波长可发射,但有一组非常接近的未辨识转换数组(uta)波长。

  总发射强度将对应于uta的总振荡器强度,必须针对每一个可能的uta评估其潜在的转换效率。

  这是一个很有意思的领域,提供了几种有趣的功能,如芯片的k边缘、碳窗(carbon window)和水窗(water widow)。针对水窗(x射线波长范围在2.34-4.4nm之间)近期已经有许多关于显微镜应用的开发。

  然而,在产生这种数百瓦较短波长光子方面存在若干挑战。最大的挑战之一在于驱动雷射所需的功率。针对6.x-nm,所需功率估计约为100kw,而13.5nm则需要~40kw。

  我曾经见过65kw co2雷射的设计,但由于功率要求很高,此时可能值得研究其他替代激光技术了。俗称「星战计划」(star wars)的美国政府战略防御计划目前采用的是1微米100kw雷射。

  另一个具有吸引力的选择是美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(lawrence livermore national laboratory;llnl)的1.2微米雷射。它可以调整至300kw,同时保持小于co2雷射的尺寸。

  当然,我们还必须关注在1.2微米时的转换效率(ce)。1微米nd:yag固态雷射的ce低于10微米co2的ce。因此,在我们确定100kw驱动雷射的最佳选择之前,必须先弄清楚几件事。


传输效率和光阻剂


   为了保持与当今扫描仪类似的传输效率,我们将会需要类似于现有的功率和ml反射率。我怀疑如果我们牺牲一部份在这些区域缩短波长取得的增益,以缩短的波长来看,功率要求和数值孔径是否就能随之降低。

  6.7nm的ml反射率可能会类似于13.5nm,因而其成为一个理想选择。而对于其他波长的ml,获得高反射率的挑战将十分困难。

  在blue-x区域探索的各种不同波长中,由于生物应用的前景,水窗(2.34-4.4nm波长)已经成为最主要的研究之一。例如optixfab最近展示用于水窗的ml收集器提升10倍性能,但反射率仍然不足30%,所以我们还有很长的路要走。

  对于较短波长区域的ml,接口粗糙度似乎是提高反射率的限制之一。针对ml研究的新化学物质可望有助于我们将反射率提高到可接受的数值。

  正如一位ml专家所说的,「我们喜欢有利的挑战……还记得我们在13.5nm达到的成果吧?」对此,我将满怀期待。让我们看看在拥有强大uta下,较短波长可以为我们带来什么。


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